Ռադիոհաճախային պլազմայի իմպեդանսի համաձայնեցման պրոցեսի կայունության ուսումնասիրումը / Investigation of the stability of impedance matching process for rf originated plasma
Ռադիոհաճախային պլազմայի իմպեդանսի համաձայնեցման պրոցեսի կայունության ուսումնասիրումը / Investigation of the stability of impedance matching process for rf originated plasma
No Thumbnail Available
Date
2019
Authors
Սարգսյան, Սարգիս Թադևոսի / Sargsyan Sargis
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
ՀՀ ԿԳՆ Երևանի պետական համալասարան
Abstract
Կիսահաղորդչային սարքերի կատարելագործումը հանդիսանում է գիտատեխնիկական առաջնթացի խթանիչ ուժը / Усовершенствование полупроводниковых приборов является движущей силой научно-технического прогресса / The enhancement of semiconductor devices is the leading force of scientific and technological progress
Description
Ա.04.03 «Ռադիոֆիզիկա» մասնագիտությամբ ֆիզիկամաթեմատիկական գիտությունների թեկնածուի գիտական աստիճանի հայցման ատենախոսություն ; Երևան-2019 ; Ատենախոսության թեման հաստատվել է՝ ՀՀ ԳԱԱ Ռադիոֆիզիկայի և էլեկտրոնիկայի ինստիտուտում ; Գիտական ղեկավար՝ S. Վ. Զաքարյան ; Պաշտոնական ընդդիմախոսներ՝ Կ. Մ. Ղամբարյան, Ա. Հ. Մակարյան ; Առաջատար կազմակերպություն՝ Երևանի կապի միջոցների գիտահետազոտական ինստիտուտ ; Սեղմագիր՝ 22 էջ։
Keywords
Ֆիզիկամաթեմատիկական գիտություններ / Mathematics & Physics