Ռադիոհաճախականային պլազմայի հսկման և ղեկավարման եղանակները արդի տեխնոլոգիական գործընթացներում / Methods of monitoring and control of rf plasma in modern technologeal processes
Ռադիոհաճախականային պլազմայի հսկման և ղեկավարման եղանակները արդի տեխնոլոգիական գործընթացներում / Methods of monitoring and control of rf plasma in modern technologeal processes
No Thumbnail Available
Date
2015
Authors
Աղաջանյան, Անդրանիկ Արմենի / Aghajanyan Andranik
Journal Title
Journal ISSN
Volume Title
Publisher
ՀՀ ԿԳՆ Երևանի պետական համալսարան
Abstract
Աշխատանքը վերաբերում է վերջին ժամանակներում բուռն զարգացում ստացած և արդի տեխնոլոգիական մի շարք գործընթացների հիմնական բաղկացուցիչ մասը կազմող ցածր ջերմաստիճանային «սառը» պլազմայի կիրառություններին / Низкотемпературная плазменная обработка материалов находит широкое применение в различных современных технологических процессах все более вытесняет традиционные химические методы обработки / The low-temperature plasma-assisted processing of materials has huge number of applications in modern technological processes such manufacturing of semiconductor devices, LCD panels, MEMS etc. and replaces the traditional chemical technique more and more
Description
Ա.04.03 «Ռադիոֆիզիկա» մասնագիտությամբ տեխնիկական գիտությունների թեկնածուի գիտական աստիճանի հայցման ատենախոսություն ; Երևան-2015 ; Ատենախոսության թեման հաստատվել է ՀՀ ԳԱԱ Ռադիոֆիզիկայի և էլեկտրոնիկայի ինստիտուտում ; Գիտական ղեկավար` Տ. Վ. Զաքարյան ; Պաշտոնական ընդդիմախոսներ` Ա. Գ. Ղուլյան, Մ. Վ. Մարկոսյան ; Առաջատար կազմակերպություն` Հայաստանի ազգային պոլիտեխնիկական համալսարան հիմնադրամ ; Ատենախոսություն՝ 104 էջ, սեղմագիր՝ 22 էջ։
Keywords
Ֆիզիկամաթեմատիկական գիտություններ / Mathematics & Physics