Ռադիոհաճախականային պլազմայի հսկման և ղեկավարման եղանակները արդի տեխնոլոգիական գործընթացներում / Methods of monitoring and control of rf plasma in modern technologeal processes

Abstract

Աշխատանքը վերաբերում է վերջին ժամանակներում բուռն զարգացում ստացած և արդի տեխնոլոգիական մի շարք գործընթացների հիմնական բաղկացուցիչ մասը կազմող ցածր ջերմաստիճանային «սառը» պլազմայի կիրառություններին / Низкотемпературная плазменная обработка материалов находит широкое применение в различных современных технологических процессах все более вытесняет традиционные химические методы обработки / The low-temperature plasma-assisted processing of materials has huge number of applications in modern technological processes such manufacturing of semiconductor devices, LCD panels, MEMS etc. and replaces the traditional chemical technique more and more